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上海伯东 氦质谱检漏仪光刻机检漏

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氦质谱检漏仪光刻机检漏

上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.



光刻机检漏方法: 采用真空模式检漏, 漏率值设定为 1x10-11pa m3/s.

1. 通过波纹管与光刻机真空系统连接

2. 使用喷枪, 喷扫管路, 腔体焊缝, 接头等部位, 如果存在超过设定漏率值的狭缝, 检漏仪会时时发出声光报警, 同时在屏幕上显示漏率值.



鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解光刻机检漏, 请联络上海伯东邓女士,分机13

 
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